PMS-1031導(dǎo)波雷達物/液位計選型表

點擊次數(shù)：1387 發(fā)布時間：2019/7/29

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公司名稱：金湖虹潤儀表有限公司型號：生產(chǎn)地址：中國大陸已獲點擊：1387 簡單介紹： PMS-1031導(dǎo)波雷達物/液位計核心部件產(chǎn)生的高頻脈沖波沿著傳感器組件——鋼纜/棒或耐腐蝕纜/棒傳播，遇到被測物料后，由于介電常數(shù)發(fā)生突變，脈沖波的部分能量產(chǎn)生反射，形成的反射波回到導(dǎo)波雷達核心部件，通過高頻微波電路的處理形成電信號，發(fā)射波和反射波之間的時間間隔和被測物料的距離成正比，微處理器根據(jù)該時間間隔計算輸出對應(yīng)的電流信號。

詳細內(nèi)容

PMS-1031導(dǎo)波雷達物/液位計選型表
產(chǎn)品簡介

導(dǎo)波雷達物位計是基于 TDR（時域反射）原理的連續(xù)物位測量產(chǎn)品。該儀表具有穩(wěn)定性高、測量精度高、應(yīng)用場合廣等優(yōu)點。相比其它原理的儀表，產(chǎn)品具有受所測物料的介電常數(shù)變化及密度變化影響小、抗粉塵、抗霧氣的特點。
測量原理

　　導(dǎo)波雷達核心部件產(chǎn)生的高頻脈沖波沿著傳感器組件——鋼纜/棒或耐腐蝕纜/棒傳播，遇到被測物料后，由于介電常數(shù)發(fā)生突變，脈沖波的部分能量產(chǎn)生反射，形成的反射波回到導(dǎo)波雷達核心部件，通過高頻微波電路的處理形成電信號，發(fā)射波和反射波之間的時間間隔和被測物料的距離成正比，微處理器根據(jù)該時間間隔計算輸出對應(yīng)的電流信號。

應(yīng)用范圍

電廠：煤堆、原煤倉、燃料倉、蓄水池、廢氣凈化罐、倉泵、灰?guī)臁⒂拖涞?
油田：原油或成品油儲罐、三相分離器、沉降罐、污水罐（池）、鉆探泥漿罐等
石化：輸油管道、蒸餾塔、濃縮罐、液化氣罐、氨水罐、汽鼓、煉油廠油庫、瀝青罐等
化工：蒸餾塔、原料和中間體料倉、反應(yīng)罐、氨水罐、有毒液體罐、固體料倉、分離器等
冶金：礦石料倉、礦石粉碎機、原料倉、輔料倉、高爐、氧化鋁粉倉、電解池緩沖罐等
水泥：石料倉、生料倉、水泥倉、煤粉倉、爐渣存儲倉等
水和水處理：蓄水池、污水池、水處理罐、沉淀池、消化塔等
造紙：原料倉、儲料塔、干燥鼓等
其他：食品、制藥、環(huán)保、造船等行業(yè)

主要特點
硬件系統(tǒng)采用先進的微處理器以及嵌入式系統(tǒng) 處理軟件，信號算法處理集成了 Ech℃apture 信號處理技術(shù)，使得該產(chǎn)品可以應(yīng)用于各種復(fù)雜工業(yè)廠況。
“空罐預(yù)處理”技術(shù)使得儀表即使在存在多個虛假回波干擾的工況下，還可以正確的識別有效回波，獲取正確的測量結(jié)果。
不受各種復(fù)雜工況的影響，如表面的強烈波動、泡沫、水汽及粉塵的干擾。
允許空倉調(diào)試，探頭組件可以根據(jù)要求任意截短。

產(chǎn)品一覽

PMS-1031	PMS-1032	PMS-1033
應(yīng)用場合：液體和固體顆粒探頭類型：桿式\纜式探頭探桿型式： Ф8mm硬桿/Ф6mm軟纜探頭長度： 1-4m硬干/3-30m 過程壓力： -0.1-4.0 MPa 過程溫度： -100-260℃	腐蝕性及強腐蝕性液體防腐桿式\防腐纜式探頭 Ф12mm絕緣硬桿/Ф3.5mm絕緣軟纜 1-4m硬桿 -0.1-4.0 MPa -100-260℃	低介電常數(shù)液體、輕質(zhì)固體顆粒雙桿式探頭 Ф8mm硬桿 1-4m硬桿 -0.1-4.0 MPa -100-260℃
PMS-1034	PMS-1035
應(yīng)用場合：泡沫及介電常數(shù)低的液體探頭類型：同軸探頭探桿型式： Ф8mm硬桿/Ф38mm護筒探頭長度： 1-4m硬干過程溫度： -100…260 ℃ 過程壓力： -0.1…4.0MPa	高溫物料桿式\纜式探頭 Ф8mm硬桿/Ф6mm軟纜 1-4m硬桿 -40…400 ℃ -0.1…4.0MPa

產(chǎn)品應(yīng)用

1 液位測量

應(yīng)用于容器內(nèi)液體的液面測量。（法蘭安裝方式，可選管座安裝）

1)為距離方式輸出值；
2)為液位方式輸出值；
3)為測量上死區(qū)，此區(qū)域內(nèi)無法正確測量；
4)為有效測量范圍，此區(qū)域內(nèi)可以正確測量；
5)為測量下死區(qū)，此區(qū)域內(nèi)無法正確測量；
6)為低位設(shè)置點；
7)為高位設(shè)置點；
8)為罐高；

2 纜式探頭

應(yīng)用于容器內(nèi) 2 種液體的界面測量。（法蘭安裝方式，可選管座安裝）

1) 為到界面的距離；
2) 為到上層介質(zhì)表面的距離；
3) 為下層介質(zhì)高度（界面高度）；
4) 為上層介質(zhì)表面高度；
5) 為上層介質(zhì)厚度；
界面測量的條件：
上層介質(zhì)(L1)
1) 上層介質(zhì)必須穩(wěn)定——介質(zhì)不能更換；
2) 上層介質(zhì)為單一物質(zhì)——內(nèi)部沒有 2 次分層；
3) 上層介質(zhì)厚度(圖中 5)至少 100mm；
4) 上層介質(zhì)與下層介質(zhì)分層明顯——沒有乳化層；
5) 上層介質(zhì)表面盡量不要有泡沫。
下層介質(zhì)(L2)
1)介電常數(shù)比上層介質(zhì)至少大 10，如上層介質(zhì)介電常數(shù)是 3，下層介質(zhì)介電常數(shù)最小是 13。下層介質(zhì)通常是導(dǎo)電液體，如水。

　3 典型應(yīng)用

存儲酸、堿溶液的絕緣罐體